فرآیندهای UV/H2O2/Fe(II),UV/H2O2/Fe(III) و UV/H2O2 به علت دارا بودن سرعت بالا در حذف مواد آلاینده از اهمیت ویژه ای برخوردار هستند و می توان از آنها در تصفیه پسابهای کارخانه های رنگرزی استفاده نمود. در این تحقیق رنگ آلی ردآمین B به عنوان ماده رنگزای آلی نمونه انتخاب شده است. بیشترین استفاده از ردآمین B در تهیه لاکها، رنگرزی چرم و کاغذ می باشد. نتایج نشان داد که این ماده رنگزا در حضور آب اکسیژنه و تابش نور ماورای بنفش  (UV-C)حاصل از لامپ جیوه (30 وات) و همچنین فرآیند فتوفنتون قابل تجزیه می باشد. حذف ردآمین B در غیاب آب اکسیژنه و در اثر عمل فتولیز مستقیم کم بوده و در غیاب تابش نورUV بسیار ناچیز می باشد. در فرآیند UV/H2O2 عوامل مختلفی از جمله زمان تابش اشعه UV ، مقدار H2O2 و غلظت اولیه رنگ، مورد بررسی قرار گرفتند. بررسی سینتیکی فرآیند  UV/H2O2نشان داد که نمودار نیمه لگاریتمی غلظت بر حسب زمان در این فرآیند تقریبا خطی می باشد که دلالت بر سینتیک درجه اول واکنش دارد. همچنین نتایج آزمایش ها نشان داد که فرآیندهای  UV/H2O2/Fe(III)و  UV/H2O2/Fe(II)در حذف آلاینده از قابلیت بالاتری نسبت به فرآیند UV/H2O2 برخوردار می باشند. به طوری که محلولی از ردآمین B با غلظت ppm 20 در حضور 18mM پر اکسید هیدروژن و تابش نورUV در مدت زمان 15 دقیقه به صورت کامل رنگزدایی گردید. نتایج آزمایش ها نشان داد که با افزایش 0.1mM ، Fe(II) یا Fe(III) به محلول حاوی 20ppm ماده رنگی و5mM،  H2O2تحت تابش نور UV مدت زمان حذف به 10 دقیقه کاهش می یابد.

سیانید از جمله آلاینده­های بسیار سمی و خطرناکی است که در پساب صنایع معدنی، آبکاری و غیره وجود دارد. در مطالعه حاضر کارایی فرایندهای اکسیداسیون پیشرفته شاملUV، O3 و تلفیق UV/O3 به منظور تخریب سیانید از پساب مصنوعی بررسی شده است. تمامی آزمایش ها در یک راکتور نیمه پیوسته انجام گرفت. اثر شرایط عملیاتی مانند غلظت اولیه سیانید، زمان واکنش، سینتیک واکنش و pH مورد بررسی قرار گرفت. آزمایشات تخریب سیانید در این مطالعه، در 4 غلظت مختلف سیانید شامل 50، 100، 200 و 250 میلی گرم بر لیتر و همچنین دو مقدار pH برابر 10 و 11 انجام شد. مدت زمان واکنش نیز از 0 تا 90 دقیقه متغیر بود. سایر پارامترهای عملیاتی فرایند در تمامی آزمایش ها ثابت نگه داشته شد. نتایج بیانگر آن بود که با استفاده از UV به تنهایی، تخریب سیانید کند است. نتایج نشان داد که راندمان تخریب سیانید توسط فرایند گاز ازن در مقدار 11=pH بیشتر از 10=pH بود. بیشترین راندمان تخریب سیانید در شرایط بهینه فرایند ازن(غلظت اولیه سیانید 50 میلی گرم بر لیتر و مدت زمان واکنش 80 دقیقه)، برابر 68 درصد به دست آمد. زمانیکه  UV با O3 تلفیق شد، سرعت تخریب افزایش یافت و تخریب بیش از 50 درصد در مدت زمان 40 دقیقه رخ داد. بیشترین راندمان تخریب سیانید در فرآیند UV/O3، معادل 100 درصد، در 10=pH، غلظت اولیه سیانید 50 میلی گرم بر لیتر و زمان واکنش 50 دقیقه به دست آمد. به طور کلی نتایج نشان داد که تخریب سیانید کل می تواند با سینتیک شبه مرتبه اول توصیف شود. در نتیجه، می­توان بیان داشت فرایند UV/O3 فرآیندی مؤثر برای تخریب سیانید از پساب است.

زمینه و هدف: مطالعه حاضر با توجه به مخاطرات فراوان فلز سنگین کروم در محیط زیست از جمله سرطان پوست و ریه و آسیبهای کلیوی و کبدی با هدف بررسی حذف Cr (VI) با استفاده از فرایندهای نانوفتوکاتالیستی و فتوشیمیایی UV/ZnO،UV/TiO2  و UV/H2O2 از محلول های آبی انجام پذیرفت.مواد و روش کار: در این مطالعه فاکتورهای موثر بر فرایند احیا مثل غلظت کاتالیست (0.05-0.15 g/L)، غلظت (0.5-1.5 mol/L) H2O2 و pH مورد بررسی قرار گرفتند. غلظت اولیه سوبسترا بین 0.1-15 mg/L متغیر بود. محلول استوک کروم (VI) با استفاده از انحلال دی کرومات پتاسیم (K2Cr2O7) در آب مقطر یک بار تقطیر تهیه گردید. غلظت باقیمانده کروم بوسیله دستگاه اسپکتروفتومتری در طول موج 540 نانومتر اندازه گیری شد.یافته ها: نتایج حاصل از این پژوهش نشان داد که با افزایش غلظت نانوذرات TiO2 و ZnO و H2O2  و همچنین کاهشpH  راندمان احیای کروم افزایش پیدا می کند. همچنین راندمان حذف با افزایش غلظت اولیه سوبسترا کاهش پیدا کرد. بیشترین احیای کروم با ZnO در pH بین 8-4 حاصل شد. همچنین با افزایش pH راندمان حذف توسط TiO2  و H2O2   کاهش یافت. از طرفی نتایج مطالعه حاضر نشان داد که فرایند احیا از سنتیک درجه اول لانگمویر- هنشلود پیروی می کند.نتیجه گیری: بطور کلی نتایج حاصله بیانگر آن است که می توان از فرایند پاک و بدون باقیمانده UV/ZnO،UV/H2O2  و UV/TiO2  به صورت موثر برای حذف کروم 6 ظرفیتی از محیط های آبی استفاده نمود.

سابقه و هدف: استایرن یکی از مهم ترین ترکیبات آلی فرار می باشد که می تواند باعث اثرات نامطلوب بهداشتی شود. در این مطالعه به بررسی توانایی حذف این ترکیب از محیط های سنتتیک هوا توسط فرآیندهای ZSM5، TiO2/ZSM5، UV/ ZSM5 و UV/TiO2/ZSM5 پرداخته شد. مواد و روش ها: جهت تولید زئولیت از روش سل ژل و جهت پوشش زئولیت با TiO2 از روش غوطه وری استفاده شد. در این مطالعه اثر نوع فرآیند حذف، زمان اشباع و غلظت آلاینده بر میزان حذف در یک فتوراکتور مورد بررسی قرار گرفت. دستگاه قرائت سنج مستقیم فوچک جهت تعیین غلظت خروجی استفاده شد. هم چنین از آنالیز SEM، XRD، EDX و BET برای تعیین خصوصیات فیزیکی و شیمیایی ZSM5 و TiO2/ZSM5 استفاده شد. یافته ها: آنالیز SEM نشان داد که زئولیت دارای شکل کریستالی است و TiO2 به خوبی بر روی این ماده پوشش داده شده است. نتایج آنالیز EDX نشان داد که درصد بالایی از ساختار زئولیت شامل دو عنصر Si و Al است. هم چنین الگوی XRD حضور TiO2 در ساختار زئولیت را به خوبی نشان داد. آنالیز BET نشان داد که با پوشش زئولیت توسط TiO2، سطح ویژه و تخلخل کاهش می یابد. افزایش راندمان حذف به ترتیب UV/TiO2/ZSM5 > ZSM5> TiO2/ZSM5 به دست آمد. زمان اشباع در غلظت ppm300 برای ZSM5 و TiO2/ZSM5 به ترتیب 370 و280 دقیقه حاصل گشت، در حالی که در حالت کاربرد UV/TiO2/ZSM5، غلظت خروجی بعد از طی مدت زمان 310 دقیقه بر روی راندمان حذف 74 درصد ثابت شد. هم چنین افزایش زمان و غلظت اولیه استایرن منجر به کاهش راندمان حذف شد. استنتاج: در این مطالعه مشاهده شد که فرآیند UV/TiO2/ZSM5 راندمان بالاتری از حذف استایرن را برای زمان های مشابه نسبت به روش های TiO2/ZSM5 و ZSM5 دارد.

به منظور بررسی اثر پرتو UV-C در از بین بردن باکتری فاقد اسپور، باکتری و قارچ اسپورزا از غلظت های متفاوت پرتوUV  استفاده گردید. تعیین مناسب ترین غلظت UV-C در ایجاد موتاسیون در باکتری ها و اثر بازدارندگی غشاهای مختلف از نفوذ نور UV-C نیز مورد بررسی قرار گرفت. باکتری های E. coli و Bacillus thuringiensis در معرض غلظت های متفاوت پرتو نور UV با طول موج 254 نانومتر قرار گرفتند. تیمارهای UV از غلظت بسیار کم (11J/m2) و تا غلظت بیشتر از 60Kj/m2 در زنده مانی و ایجاد تغییرات در جمعیت باکتری ها، مورد بررسی قرار گرفت. باکتری B. thuringiensis  در مقایسه با E. coli مقاومت قابل توجهی در مقابل پرتو UV از خود نشان داد. غلظت های حدود 200J/m2 و 200 اثری در کاهش جمعیت B. thuringiensis نداشت. اثر بازدارندگی نور یاد شده از حدود 260J/m2 شروع و در 3000Jm2 زنده مانی سلول ها تا کمتر از 1log کاهش یافت. در باکتری E. coli غلظت 170J/m2 باعث کاهش زنده مانی باکتری تا حدود 5log گردید. جهت حذف 100% باکتری ها نیاز به غلظت بالای UV می باشد. اسپور و قارچ Penicillium sp. در مقایسه با باکتری ها، مقاومت بسیار زیادی در مقابل پرتو UV از خود نشان داد. به طوری که برای کنترل قارچ و اسپور نیاز به غلظت های بیشتر از  18000 J/m2می باشد. در بررسی اثر غشاها یا پوشش های مختلف در جلوگیری از نفوذ نور UV-C مشخص گردید پلاستیک LDPE حاوی مواد ضد UV و شیشه، به طور 100% از نفوذ UV جلوگیری می نمایند. لیکن پلاستیک های LDPE فاقد مواد ضد UV با ضخامت های مختلف تاثیر قابل توجهی در بازدارندگی نفوذ نور UV ندارند. ضخامت های حدود 6 میکرون LDPE تفاوتی با شاهد (بدون محافظ) نداشت. تابش نور UV با غلظت 88 J/m2 باعث ایجاد موتاسیون در E. coli و پیدایش کلنی های مقاوم به آنتی بیوتیک ریفامپین گردید. لیکن پرتو UV تاثیری در ایجاد باکتری موتانت B. thuringiensis با عدم توان اسپورزایی نداشت.

هدف از این مطالعه بررسی کارایی فرایندهای فوتوکاتالیستی UV/TiO2و UV/H2O2/TiO2 در حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین از محلول های آبی می باشد. روش کار: این مطالعه از نوع تجربی- کاربردی بود که به صورت ناپیوسته در مقیاس آزمایشگاهی صورت پذیرفت و در آن تاثیر پارامترهای مختلفی از قبیل غلظت اولیه تتراسایکلین، غلظت دی اکسید تیتانیوم (TiO2)، غلظت پراکسید هیدروژن (H2O2)، زمان تماس و pH مورد بررسی قرار گرفت. در تمام مراحل آزمایش حجم نمونه ها 250 میلی لیتر در نظر گرفته شد. کلیه آزمایشات در یک راکتور 500 میلی لیتری، در دمای آزمایشگاه (24±2 درجه سلسیوس) با استفاده از همزن مغناطیسی با سرعت150 دور در دقیقه انجام گردید.یافته ها: نتایج حاصله نشان داد که pH نقش مهمی در حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین در فرایند UV/TiO2 دارد. با افزایش زمان تماس و غلظت TiO2 راندمان حذف افزایش یافت، ولی غلظت TiO2 بیشتر از 1 گرم در لیتر و زمان تماس بیشتر از 90 دقیقه تاثیر چشمگیری در راندمان حذف نداشت. حداکثر راندمان حذف (91.4%) در 5 = pH، غلظت TiO2 1 گرم در لیتر، غلظت اولیه تتراسایکلین 27 میلی گرم در لیتر و زمان تماس 90 دقیقه به دست آمد. تجزیه فتوکاتالیستی تتراسایکلین به خوبی از مدل سینتیکی درجه اول کاذب (0.99= R2) پیروی می کرد. افزودن H2O2 به میزان 100 میلی گرم در لیتر در 5 = pH و غلطت TiO2 معادل 1 گرم در لیتر منجر به حذف کامل تمامی غلطت های مختلف تتراسایکلین به کار رفته در این مطالعه بعد از 30 دقیقه زمان تماس گردید.نتیجه گیری: نتایج حاصل از این مطالعه نشان داد که فرایند فتوکاتالیستی UV/H2O2/TiO2 یک فرایند بسیار موثر بوده و می توان از این فرایند برای حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین از محلول های آبی استفاده نمود.